Mục tiêu đồng

Mục tiêu đồng là nguồn phún xạ rắn được làm từ vật liệu đồng có độ tinh khiết cao. Chúng chủ yếu được sử dụng để tạo lớp phủ phún xạ trong các quy trình lắng đọng hơi vật lý (PVD), lắng đọng màng đồng hiệu suất cao trên bề mặt đế.

1. Độ tinh khiết cực cao: Độ tinh khiết của vật liệu lõi được kiểm soát chặt chẽ ở mức 99,999% (5N) đến 99,9999% (6N). Độ tinh khiết cực cao này giảm thiểu nguy cơ tạp chất được đưa vào màng, đảm bảo màng lắng đọng có độ dẫn điện và nhiệt tuyệt vời, độ dẻo và độ ổn định, đáp ứng các yêu cầu nghiêm ngặt của chất bán dẫn cao cấp, màn hình hiển thị và lớp phủ quang học chính xác.
2. Kích thước và trọng lượng có thể tùy chỉnh: Chúng tôi cung cấp các dịch vụ có thể tùy chỉnh. Dựa trên thông số kỹ thuật buồng của thiết bị phún xạ của khách hàng và các yêu cầu quy trình cụ thể, chúng tôi có thể tùy chỉnh sản xuất các mục tiêu đồng theo kích thước và trọng lượng tối đa cần thiết, đạt được hiệu quả phủ và sử dụng vật liệu tối ưu.
3. Bao bì chắc chắn: Bảo vệ ba lần đảm bảo vận chuyển an toàn:
Bảo vệ lõi: Vật liệu mục tiêu được đóng gói chân không thành hai lớp để cách ly độ ẩm không khí một cách hiệu quả, ngăn chặn quá trình oxy hóa và ngăn ngừa ô nhiễm bề mặt.
4. Bảo vệ đệm: Bao bì chân không chứa đầy vật liệu đệm xốp ngọc trai (EPE) hiệu suất cao để hấp thụ sốc và rung, ngăn ngừa hư hỏng vật lý.
5. Gia cố hộp bên ngoài: Lớp ngoài cùng được bao bọc trong một hộp gỗ chắc chắn, mang lại sự hỗ trợ về cấu trúc chắc chắn và khả năng chống chịu tác động từ bên ngoài, đảm bảo vận chuyển toàn cầu an toàn.
6. Ứng dụng chính: Được thiết kế cho các quá trình phủ phún xạ như phún xạ magnetron và phún xạ chùm ion. Trong môi trường chân không cao, các hạt năng lượng cao bắn phá vật liệu mục tiêu, bắn ra các nguyên tử đồng từ bề mặt mục tiêu. Những nguyên tử này sau đó được lắng đọng trên các chất nền (chẳng hạn như tấm silicon, thủy tinh và màng polymer), tạo thành một màng đồng có chức năng đồng nhất, dày đặc và có độ bám dính cao.