mục tiêu titan

Mục tiêu titan là nguyên liệu thô chính được sử dụng trong quá trình phún xạ lắng đọng hơi vật lý (PVD). Các hạt năng lượng cao bắn phá bề mặt của chúng, làm phún xạ các nguyên tử hoặc ion titan, tạo thành màng hợp chất titan hoặc titan có độ tinh khiết cao, hiệu suất cao trên đế.

▸Tính năng cốt lõi và thông số kỹ thuật:
1. Độ tinh khiết cực cao: Có sẵn ở các mức độ tinh khiết khác nhau, từ 99,99% (4N) đến 99,9999% (6N), các mục tiêu này đáp ứng các yêu cầu nghiêm ngặt về tạp chất của các ứng dụng khác nhau và đảm bảo độ dẫn điện, khả năng chống ăn mòn và khả năng tương thích sinh học tuyệt vời.
2. Kích thước và trọng lượng có thể tùy chỉnh: Sản xuất tùy chỉnh hoàn toàn được hỗ trợ. Kích thước và trọng lượng tối đa có thể được thiết kế và sản xuất để đáp ứng các buồng thiết bị cụ thể của khách hàng, các yêu cầu về quy trình và công suất phún xạ, mang lại sự linh hoạt tối đa cho quy trình.
3. Bao bì chuyên nghiệp: Được đóng gói an toàn trong thùng gỗ hoặc pallet, các mục tiêu có độ chính xác cao, giá trị cao này được bảo vệ khỏi hư hỏng, nhiễm bẩn và biến dạng trong quá trình vận chuyển và bảo quản, đáp ứng các tiêu chuẩn vận chuyển công nghiệp.

▸Lĩnh vực ứng dụng cốt lõi:
1. Màn hình LCD (Màn hình tinh thể lỏng): Được sử dụng để đặt các điện cực (chẳng hạn như cổng, nguồn/cống) hoặc các lớp rào cản trong mảng bóng bán dẫn màng mỏng (TFT), điều này rất quan trọng để hiển thị hiệu suất và hiệu suất.
2. Thiết bị y tế và cấy ghép: Được sử dụng để lắng đọng các màng mỏng titan hoặc titan nitride có độ tinh khiết cao trên bề mặt của các thiết bị y tế như khớp nhân tạo, vít xương, cấy ghép nha khoa và ống đỡ động mạch tim, cải thiện đáng kể khả năng tương thích sinh học, chống mài mòn, chống ăn mòn và tích hợp xương của sản phẩm.